低损耗氮化硅薄膜
产品描述
氮化硅光学薄膜具有宽的透明窗口，在薄膜光学、集成光子器件、非线性光学等领域有着重要应用
提供定制化服务，在保证高品质的同时对薄膜应力进行管理，可以提供定制化薄膜厚度（20-800nm）生长
| 尺寸 | Si层规格 | SiO2规格 | Si3N4规格 | Si3N4 沉积工艺 |
| 4 inch | Diameter:4″-100mm Material: Silicon Type/Dopant:P/Boron Orientation:(100) Resistivity: 1-20 ohm-cm Thickness: 525 +/- 25um Surface: SSP | 3um | <=400nm | LPCVD |
| 4 inch | Diameter:4″-100mm Material: Silicon Type/Dopant:P/Boron Orientation:(100) Resistivity: 1-20 ohm-cm Thickness: 525 +/- 25um Surface: SSP | 3um | 400nm~800nm | LPCVD |
| 6 inch | Diameter:6″-150mm Material: Silicon Orientation:(100) Thickness: 625 +/-10um Surface: SSP | 3um | <=400nm | LPCVD |
| 6 inch | Diameter:6″-150mm Material: Silicon Orientation:(100) Thickness: 625 +/ 10um Surface: SSP | 3um | 400nm~800nm | LPCVD |